New procedures for thin film deposition by reaktive magnetron sputtering
Public support
Provider
Ministry of Education, Youth and Sports
Programme
KONTAKT
Call for proposals
—
Main participants
—
Contest type
M2 - International cooperation
Contract ID
9113/2008-32
Alternative language
Project name in Czech
Nové postupy při depozici tenkých vrstev reaktivním magnetronovým naprašováním
Annotation in Czech
Hlavním cílem této bilaterální spolupráce je porozumění a kontrola fyzikálních procesů klíčových při přípravě tenkých vrstev metodou magnetronového naprašováním (PVD).
Scientific branches
R&D category
NV - Nonindustrial research (Applied research excluded Industrial research)
CEP classification - main branch
BL - Plasma physics and discharge through gases
CEP - secondary branch
—
CEP - another secondary branch
—
OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Completed project evaluation
Provider evaluation
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Project results evaluation
Both laboratories studies elementary processes taking place in reactive magnetron sputtering as wel as the properties of deposited materials. Komplementary study of pulsed excited discharges took place, too.
Solution timeline
Realization period - beginning
Jan 1, 2008
Realization period - end
Dec 31, 2008
Project status
U - Finished project
Latest support payment
Aug 7, 2008
Data delivery to CEP
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data delivery code
CEP09-MSM-ME-U/02:2
Data delivery date
May 7, 2010
Finance
Total approved costs
25 thou. CZK
Public financial support
25 thou. CZK
Other public sources
0 thou. CZK
Non public and foreign sources
0 thou. CZK