Filters
Experimental and theoretical studies of electronic excitations in solids during atomic scattering and sputtering (ME 053)
The charge and excitation states of atomic particles scattered from solid surfaces will be studied experimentally and theoretically. Surfaces of ultraclean Al-metal and of Si, GaAs, and InAs semiconductors will be used in the experiments. Th...
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
- 1997 - 2000 •
- 680 tis. Kč •
- 480 tis. Kč •
- MŠMT
Řešení projektu: 1. 1. 1997 - 1. 1. 2000
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (71%)
Poskytovatel: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Ion and electron emissions from solids (IAA1067801)
spectrometer. Additional substrate excitations are provided by a pulsed powerful electron theoretically by computer modelling of electron excitation processes. The project......
BG - Jaderná, atomová a molekulová fyzika, urychlovače
- 1998 - 2001 •
- 2 794 tis. Kč •
- 738 tis. Kč •
- AV ČR
Řešení projektu: 1. 1. 1998 - 1. 1. 2001
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (26%)
Poskytovatel: Akademie věd České republiky
Investigation of Multi-Plasma-Jet System as a Source for Low Temperature Deposition of Perovskites Thin Films (KJB1010302)
jet sputtering system used for the temperature deposition of thin film perovskites jet system and properties of reactive plasma. Reactive sputtering of the nozzles excitation of high density hollow cathode jets will be use...
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
- 2003 - 2005 •
- 1 879 tis. Kč •
- 1 316 tis. Kč •
- AV ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2003 - 1. 1. 2005
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (70%)
Poskytovatel: Akademie věd České republiky
Advanced preparation of catalytically active oxides on metal supports using combination of plasma sputtering and chemical methods (GA17-08389S)
such catalysts; it has not been studied in detail until now. The magnetron sputtering working in DC, pulsed-DC, and HiPIMS regime of discharge excitation will be thoroughly......
CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství
- 2017 - 2019 •
- 9 398 tis. Kč •
- 8 522 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2017 - 31. 12. 2019
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (91%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
Příprava a charakterizace Au nanostruktur (GPP108/11/P337)
The project concerns with preparation and characterization of Au nanosturctures on various substrates (polymer, glass). Creation of Au nanostructures will be done by physical deposition including sputtering and evaporation. Pre-depositon tre...
JJ - Ostatní materiály
- 2011 - 2013 •
- 2 469 tis. Kč •
- 2 469 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2011 - 31. 12. 2013
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (100%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
Plasma polymers prepared by RF sputtering of polymeric solids (1P05OC008)
study of sputtering of polymers, configuration of deposical parametres, sputtering of nylon...
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
- 2005 - 2005 •
- 244 tis. Kč •
- 122 tis. Kč •
- MŠMT
Řešení projektu: 1. 1. 2005 - 1. 1. 2005
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (50%)
Poskytovatel: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Doped DLC nanocomposite biomedical coating created by laser hybrid systems (LD12069)
Project is mainly aimed for preparation of diamond-like carbon DLC coatings by Hybrid laser systems with higher plasma excitation. Aim of work is to improve surface properties of DLC coatings for use in medicine. Main aim is to improve adhes...
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
- 2012 - 2013 •
- 660 tis. Kč •
- 660 tis. Kč •
- MŠMT
Řešení projektu: 1. 3. 2012 - 31. 12. 2013
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (100%)
Poskytovatel: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
*Rotatable sputter targets for high quality large area coating (FR-TI1/407)
*Development of production techology of rotatable high density sputter targets with adjustable morphology for high quality large area coatings......
JG - Hutnictví, kovové materiály
- 2009 - 2012 •
- 37 273 tis. Kč •
- 21 495 tis. Kč •
- MPO
Řešení projektu: 1. 3. 2009 - 31. 12. 2012
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (58%)
Poskytovatel: Ministerstvo průmyslu a obchodu
Sputtering equipment for funkcionel Cu coating (TC3-59)
Sputtering equipment for funkcionel Cu coating...
JJ - Ostatní materiály
- 1997 - 1998 •
- 9 000 tis. Kč •
- 4 000 tis. Kč •
- MH
Řešení projektu: 1. 1. 1997 - 1. 1. 1998
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (44%)
Poskytovatel: Ministerstvo hospodářství
The development of technology and the introduction sputtering targets for the production of glass with a high heat reflectance. (FF-P/017)
Research and development of technology of sputtering targets for the production of glass with a high heat reflectance. The products must meet the high requirements for the purity of materials, a balanced and fine-grained structure and accura...
JG - Hutnictví, kovové materiály
- 2002 - 2004 •
- 19 789 tis. Kč •
- 4 710 tis. Kč •
- MPO
Řešení projektu: 1. 1. 2002 - 1. 1. 2004
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (24%)
Poskytovatel: Ministerstvo průmyslu a obchodu
- 1 - 10 out of 699