High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F04%3A00010939" target="_blank" >RIV/00216224:14310/04:00010939 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
Original language description
High-Resolution X-Ray Scattering From Thin Films to Lateral Nanostructures
Czech name
Rtg rozptyl s vysokýzm rozlišením na tenkých vrstvách a laterálních nanostrukturách
Czech description
Rtg rozptyl s vysokýzm rozlišením na tenkých vrstvách a laterálních nanostrukturách
Classification
Type
B - Specialist book
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA202%2F00%2F0354" target="_blank" >GA202/00/0354: Self-organisation processes on the interfaces during epitaxial growth of semiconductor superlattices</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
ISBN
0387400923
Number of pages
408
Publisher name
Springer
Place of publication
New York, Berlin, Heidelberg
UT code for WoS book
—