Complex study of the mechanical properties of a-Si:H and a-SiC:H thin films
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00012628" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00012628 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/68081723:_____/05:00024071
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Complex study of the mechanical properties of a-Si:H and a-SiC:H thin films
Original language description
The aim of this study is to provide the complex study of the mechanical properties of a-SiH and a-SiC:H thin films prepared under different plasma conditions.
Czech name
Komplexní studium mechanických vlastností tenkých vrstev a-Si:H , a-SiC:H
Czech description
Cílem práce je komplexní studium mechanických vlastností tenkých vrstev a-Si:H a a-SiC:H připravených v plazmatu za různých depozičních podmínek.
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA106%2F05%2F0274" target="_blank" >GA106/05/0274: Multiscale approach to relationships between mechanical and microstructural characteristics of materials</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
Book of abstract - ICANS 21
ISBN
972-8893-04-3
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
1
Pages from-to
162
Publisher name
Universidade Nova de Lisboa
Place of publication
Lisbon
Event location
Lisabon
Event date
Sep 3, 2005
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—