High-resolution three-dimensional imaging of flat objects by synchrotron-radiation computed laminography

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00013830" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00013830 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

High-resolution three-dimensional imaging of flat objects by synchrotron-radiation computed laminography

Original language description

Computed laminography with synchrotron radiation is developed and carried out for three-dimensional imaging of flat, laterally extended objects with high spatial resolution. Particular experimental conditions of a stationary synchrotron source have beentaken into account by a scanning geometry different from that employed with movable conventional laboratory x-ray sources. Depending on the mechanical precision of the sample manipulation system, high spatial resolution down to the scale of 1 um can be attained nondestructively, even for objects of large lateral size. Furthermore, high beam intensity and the parallel-beam geometry enables easy use of monochromatic radiation for optimizing contrast and reducing imaging artifacts. Simulations and experiments on a test object demonstrate the feasibility of the method. Application to the inspection of solder joints in a flip-chip bonded device shows the potential for quality assurance of microsystem devices.

Czech name

Vysocerozlišovací trojdimenzionální zobrazování plochých objektů synchrotronovou výpočetní laminografií

Czech description

V článku je vypracována metoda výpočetní laminografie pro synchrotronové záření, a použita pro trojdimenzionální zobrazování rovinných, laterálně rozsáhlých objektů s vysokým prostorovým rozlišením. Konkrétní experimentální podmínky stacionárního synchrotronového zdroje byly vzaty do úvahy pro skenovací geometrii odlišnou od té, která je používána konvenčními laboratorními zdroji. V závislosti na mechanické přesnosti manipulačniho systému vzorku je možné nedestruktivně dosáhnout vysokého prostorového rozlišení až do 1 um, a to i pro laterálně velké vzorky. Dále, vysoká intenzita záření a paralelnost vzorku umožňují použití monochromatického záření pro optimalizaci konstrastu a odstranění artefaktů zobrazení. Simulace a experiment na testovacím objektudemonstrují použitelnost metody. Aplikace pro inspekci pájených kontaktů mikroelektronického čipu ukazuje potenciál metody pro zajištění kvality mikrosystémových zařízení.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Applied Physics Letters

ISSN

0003-6951

e-ISSN

—

Volume of the periodical

86

Issue of the periodical within the volume

1

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

3

Pages from-to

071915-1

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—