Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024832" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024832 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
Original language description
The fundamental and the higher harmonics of the cathode voltage and of the uncompensated probe potential were used as a tool to control the reactive magnetron sputtering. It was shown that this methode is very sensitive and is suitable for the control ofthe deposition process.
Czech name
Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
Czech description
Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí.

Project
<a href="/en/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
ISBN
2-914771-04-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
—
Publisher name
European Physical Society
Place of publication
Granada
Event location
Španělsko, Granada
Event date
Jan 1, 2008
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)