Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024850" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024850 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
Original language description
Theoretical study of role of neutral gas temperature on hysteresis behaviour of reactive sputtering deposition process
Czech name
Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani
Czech description
Teoretická studie vlivu teploty neutrálního plynu na chování reaktivního magnetronového naprašování

Project
<a href="/en/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008
ISBN
978-80-01-04030-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
—
Publisher name
České vysoké učení technické
Place of publication
Praha
Event location
Praha
Event date
Jun 16, 2008
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Result description