Direct fabrication of surface relief gratings in chalcogenide glasses by excimer laser interference lithography

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F09%3A00008255" target="_blank" >RIV/00216275:25310/09:00008255 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/00216275:25310/09:00008347
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Direct fabrication of surface relief gratings in chalcogenide glasses by excimer laser interference lithography
Original language description
In this paper we study the possibility to realise surface relief gratings in thin chalcogenide glass films by holographic exposure using a pulsed KrF excimer laser. Gratings with a period of 540 nm and depths of 100 ? 300 nm were patterned at the surfaceof 1 lm thick films. Due to coupling of an incident near-infrared laser beam to waveguide modes a resonance-like polarisation dependent decline of transmission was observed at specific incidence angles. Just one laser pulse with a fluence of 12 mJ/cm2 per beam was sufficient to achieve the required grating parameters in sulphide glasses with low Tg.
Czech name
Přímá tvorba povrchových reliéfních mřížek v chalkogenidových sklech excimerovou laserovou interferenční litografií
Czech description
Byla studována možnost tvorby povrchových reliéfních mřížek ve vrstvách chalkogenidových skel holografickou expozicí pulzním KrF excimerovým laserem. Byly připraveny mřížky s periodou 540 nm a hloubkou korugace 100 - 300 nm ve vrstvách o tloušťce 1 mikron. K zápisu mřížek do sulfidických skel s nízkou hodnotou Tg postačila i expozice 1 pulzem 12 mJ/cm2.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CA - Inorganic chemistry
OECD FORD branch
—

Publication year
2009
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)