Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F04%3APU47908" target="_blank" >RIV/00216305:26210/04:PU47908 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth
Original language description
Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth
Czech name
Aplikace komplexní UHV aparatury ke studiu nízkoteplotního růstu velmi tenkých vrstev nitridu gallia.
Czech description
Aplikace komplexní UHV aparatury ke studiu nízkoteplotního růstu velmi tenkých vrstev nitridu gallia.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Result description