Change of dielectrics spectrum of polymers during long exposition and low temperatures

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F10%3APU88878" target="_blank" >RIV/00216305:26220/10:PU88878 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Original language description

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku.

Czech name

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Czech description

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

JA - Electronics and optoelectronics

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GAP102%2F10%2F2013" target="_blank" >GAP102/10/2013: Fluctuation processes in PN junctions of solar cells</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Publication year

2010

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Volume of the periodical

2010

Issue of the periodical within the volume

10

Country of publishing house

CZ - CZECH REPUBLIC

Number of pages

3

Pages from-to

—

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—