Radiatively heated Al effesion cell

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F14%3APR28106" target="_blank" >RIV/00216305:26620/14:PR28106 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-01/" target="_blank" >http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-01/</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem
Original language description
Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých Al vrstev v podmínkách UHV. Vypařovaný materiál je umístěn v PBN zásobníku. Výstupní část tohoto zásobníku je během funkce zdroje aktivně ochlazována, což je velmi vhodné pro materiály s vysokou vzlínavostí, jako je například zmíněný hliník. Ohřev zásobníku je realizován průchodem elektrického proudu tantalovým odporovým drátem.
Czech name
Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem
Czech description
Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých Al vrstev v podmínkách UHV. Vypařovaný materiál je umístěn v PBN zásobníku. Výstupní část tohoto zásobníku je během funkce zdroje aktivně ochlazována, což je velmi vhodné pro materiály s vysokou vzlínavostí, jako je například zmíněný hliník. Ohřev zásobníku je realizován průchodem elektrického proudu tantalovým odporovým drátem.

Project
<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2014
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID
Al cela
Numerical identification
—
Technical parameters
Zařízení je určeno k depozici Al ultratenkých vrstev v podmínkách vysokého vakua od p>1x10-5 Pa. Ohřev depozitu je až do teplot 1200 C. Tělo zdroje je vyhotoveno s F.O.Cu. a účinně chlazeno vodou. Depozit je umístěn v PBN zásobníku, kde ústízásobníkuje aktivně chlazeno. Teplota zdroje i deponovaného materiálu je měřena pomocí termočlánku. Celé zařízení je umístěno na přírubě DN40.
Economical parameters
Náklady na výrobu byly 130 000Kč. Doba vývoje zařízení přesáhla několik set hodin. Zařízení je využíváno ke studiu růstu Al a AlN ultratenkých vrstev v UHV.
Application category by cost
—
Owner IČO
00216305
Owner name
Příprava a charakterizace nanostruktur
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
N - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek
Web page
—

Similar results(10)