Verified technology of antireflection coating fabrication optimized for 266 nm
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F24%3APR40059" target="_blank" >RIV/00216305:26620/24:PR40059 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/19196661:_____/24:N0000003
Result on the web
<a href="https://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2025-ovena-technologie-pipravy-antireflexni-vrstvy-pro-vlnovou-delku-266-nm-/" target="_blank" >https://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2025-ovena-technologie-pipravy-antireflexni-vrstvy-pro-vlnovou-delku-266-nm-/</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm
Original language description
Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm pomocí depozice dielektrických vrstev technologií depozice z pevné fáze (PVD) a depozicí atomárních vrstev (ALD). U metody PVD jde technologii napařování pomocí elektronového děla s podporou plasmového děla (Advanced Plasma Source).
Czech name
Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm
Czech description
Ověřená technologie přípravy antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 266 nm pomocí depozice dielektrických vrstev technologií depozice z pevné fáze (PVD) a depozicí atomárních vrstev (ALD). U metody PVD jde technologii napařování pomocí elektronového děla s podporou plasmového děla (Advanced Plasma Source).
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
—
OECD FORD branch
20506 - Coating and films
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FW06010019" target="_blank" >FW06010019: Production of optical components by chemical vapor deposition and Atomic Layer Deposition methods</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2024
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
Trend Meopta vysledek FW06010019
Numerical identification
Dokumentace výsledku_FW06010019-V2
Technical parameters
Připravený optický prvek před procesem vrstvení projde: Mytím, kontrolou čistoty, vizuální kontrolou. Dočištěním liho-étherovou směsí, popř. acetonem. Vložením do zavrstvených kalot. Závozem do procesní komory depozičního zařízení. Depoziční proces PVD se skládá z: Očištění povrchu O2 plasmatem nebo iontovým zdrojem po stanovenou dobu (> 60 sekund), popřípadě zbavení organické kontaminace očištěním v UVO (ozonové čištění). Následné depozice (unikátní číslo programu) s definovanými procesními kroky (předehřátí komory, postupný start jednotlivých depozičních zdrojů, čerpání na mezní hodnotu vakua). Chladnutí, postupné vytažení. Spektrální kontroly – měření odrazivosti včetně testovacích klínů. Kontroly čistoty optického prvku. Depoziční proces ALD se skládá z: Zbavení se organické kontaminace očištěním v UVO (ozonové čištění). Následné depozice (unikátní číslo programu) s definovanými procesními kroky (předehřátí komory, postupný start jednotlivých depozičních zdrojů, čerpání na mezní hodnotu vakua) - viz diagram na schématu 1. Chladnutí, postupné vytažení. Spektrální kontroly – měření propustnosti navrstvených svědečných skel. Kontroly čistoty optického prvku.
Economical parameters
Zatím se nepředpokládá komercionalizace, funkční vzorek slouží pro interní potřeby VUT a Meopta (partner projektu, spoluautori vysledku), mezi kterými je sdílen dle aktuální potřeby.
Application category by cost
—
Owner IČO
00216305
Owner name
Vysoké učení technické v Brně
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
https://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2025-ovena-technologie-pipravy-antireflexni-vrstvy-pro-vlnovou-delku-266-nm-/