Functional sample of a lithograph
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F01733214%3A_____%2F15%3A00000001" target="_blank" >RIV/01733214:_____/15:00000001 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Funkční vzorek litografu
Original language description
Byl sestaven funkční litografický systém, a na základě jeho funkčních testů budou stanoveny směr a priorit dalšího vývoje. Funkční vzorek zařízení včetně řídícího software zařízení je kompletně sestaven. Testování subcelků poskytly další podněty k vylepšování a optimalizace v konstrukci. Paralelně probíhal vývoj základního software pro řízení litografu a firmware DSP/FPGA, a následně byl testován funkčnost subcelků, a posléze celého systému. Odměřovací systém: Elektronika odměřovacího systému byla vyrobena a softwarové detekce a zpracování interferometrického systému byla dokončena. Pro funkční vzorek litografického systému byla sestrojena úplně nová modulární elektronika s možností modifikací. Byly vypracovány metody pro vyhodnocení nepřesnosti expozice velkých ploch. Software pro řízení litografického systému je dokončena a integrována do software pro řízení mikroskopu. První testovací litografické struktury byly realizovány.
Czech name
Funkční vzorek litografu
Czech description
Byl sestaven funkční litografický systém, a na základě jeho funkčních testů budou stanoveny směr a priorit dalšího vývoje. Funkční vzorek zařízení včetně řídícího software zařízení je kompletně sestaven. Testování subcelků poskytly další podněty k vylepšování a optimalizace v konstrukci. Paralelně probíhal vývoj základního software pro řízení litografu a firmware DSP/FPGA, a následně byl testován funkčnost subcelků, a posléze celého systému. Odměřovací systém: Elektronika odměřovacího systému byla vyrobena a softwarové detekce a zpracování interferometrického systému byla dokončena. Pro funkční vzorek litografického systému byla sestrojena úplně nová modulární elektronika s možností modifikací. Byly vypracovány metody pro vyhodnocení nepřesnosti expozice velkých ploch. Software pro řízení litografického systému je dokončena a integrována do software pro řízení mikroskopu. První testovací litografické struktury byly realizovány.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2015
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data specific for result type
Internal product ID
EBL – litografický systém
Numerical identification
—
Technical parameters
Nagavalli S. Kiran, kiran@tescan.cz; 530 353 131
Economical parameters
Funkční vzorek přístroje je základem pro vývoj prototypu, který následně bude uvolněn do výroby.
Application category by cost
—
Owner IČO
01733214
Owner name
TESCAN Brno, s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Web page
—