Optimized plasma deposition system for the preparation of defined inhomogeneous structures

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F24279501%3A_____%2F23%3AN0000005" target="_blank" >RIV/24279501:_____/23:N0000005 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Optimalizovaný plazmatický depoziční systém přípravy definovaných nehomogenních struktur

Original language description

Jedná se o unikátní funkční vzorek průmyslového plazmatického depozičního systému, který umožní pokrytí optického bezpečnostního prvku tenkou vrstvou. Tento optický prvek je určený pro finální produkty (syntetické bankovky, plastové ID doklady apod.) obsahující v rámci své plochy transparentní oblasti. V těchto oblastech je pomocí technologického kroku laminace či horké ražby aplikován transmisní difrakční bezpečnostní prvek nové generace. Bezpečnostní prvek samotný se skládá z polykarbonátového substrátu s řízeně vytvořenou reliéfní povrchovou strukturou a deponovanou nehomogenní vrstvou kovu nebo oxidu kovu. Výsledným efektem takového prvku je tzv. switch, kdy se pod určitým pozorovacím úhlem jeví prvek jako metalický (neprůhledný) hologram, zatímco pod odlišným úhlem je transparentní. Dále je možné realizovat transmisní efekt, kdy optický prvek má po osvětlení specifickou světelnou odezvu. Základ depozičního systému tvoří lineární řady tryskových plazmatických zdrojů, kdy každý zdroj plazmatu je tvořen pulzní dutou katodou a supersonickým plazmatickým kanálem. Dutá katoda ve tvaru cylindrické trysky je zhotovena z titanu a je rozprašována a odpařována v intenzivním pulzním výboji v duté katodě. Tyto odpařené a rozprášené částice jsou unášeny z této katody do vakuové komory supersonickou rychlostí a dále jsou tímto plazmatickým kanálem neseny směrem k chlazenému substrátu. Pro zlepšení kolimačního účinku lze použít před substrát přídavný 2D kolimátor umístěný před výstupem duté katody. Výška kolimačních plátů by měla být menší než střední volná dráha rozprášených částic v plazmovém toku, což určuje podmínku velikosti pracovního tlaku plynu v reaktoru. Současně korekcí parametrů depozice lze řídit zabarvení deponovaných transmisních vrstev.

Czech name

Optimalizovaný plazmatický depoziční systém přípravy definovaných nehomogenních struktur

Czech description

—

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

—

OECD FORD branch

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Project

<a href="/en/project/EG21_374%2F0026818" target="_blank" >EG21_374/0026818: Transmission optical elements for securing banknotes and documents using selective deposition of a thin-film structure</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2023

Confidentiality

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Internal product ID

FV001

Numerical identification

—

Technical parameters

Pomocí plazmatického zařízení s dutou katodou byl vytvořen bezpečnostní optický prvek sestávající z tenké vrstvy na průhledové optické struktuře, která generuje definovanou optickou odezvu při pozorování na průhled, i když je deponovaná struktura zalaminovaná mezi polymerní fólie. Vakuové depoziční zařízení s depozičními jednotkami na bázi dutých katod se supersonickými plazmatickými kanály. Technické parametry plazmatického depozičního zařízení: průtok argonu QAr= 40- 200 sccm průtok kyslíku QO2= 1- 200 sccm tlak pracovního plynu p= 0,2- 10 Pa počet aktivních plazmatických kanálů: 1 - 8 maximální střední proud výbojem v jedné katodě: Iavmax = 2,5 A maximální střední výkon výboje v jedné katodě: Pav = 700 W napětí na katodě v aktivní části výboje Uav=200 - 400 W frekvence pulzování výboje: fp = 10 - 2000 Hz doba vypnutí výboje TOFF= 5 μs vzdálenost výstupu duté katody a substrátu ls= 80-110 mm.

Economical parameters

nárůst tržeb o 2 % v roce 2024 a v podobném trendu v následujících třech letech

Application category by cost

—

Owner IČO

24279501

Owner name

IQS Group, a.s.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Licence fee requirement

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Web page

—