Proces AEPI - pokročilý epitaxní růst na křemíkovém substrátu průměru 150 a 200 mm.
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F13%3A%230000061" target="_blank" >RIV/26821532:_____/13:#0000061 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Process of Advanced Epitaxial Growth (AEPI) on 150 and 200 mm Silicon substrates.
Original language description
Proces pokročilého epitaxního růstu (AEPI) na 150 a 200 mm křemíkových substrátech umožňující dosažení minimální variability tloušťky a elektrického měrného odporu epitaxní vrstvy a minimálního počtu světlo rozptylujících defektů na povrchu desky.
Czech name
Process of Advanced Epitaxial Growth (AEPI) on 150 and 200 mm Silicon substrates.
Czech description
Proces pokročilého epitaxního růstu (AEPI) na 150 a 200 mm křemíkových substrátech umožňující dosažení minimální variability tloušťky a elektrického měrného odporu epitaxní vrstvy a minimálního počtu světlo rozptylujících defektů na povrchu desky.
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
JJ - Other materials
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FR-TI3%2F031" target="_blank" >FR-TI3/031: Research and Development of Technologies of Manufacturing of Novel Species of Silicon Wafers</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2013
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data specific for result type
Internal product ID
AEPI
Numerical identification
—
Technical parameters
150&200 mm AEPI, LLS 100% of wafer - max. 30 >0.30 um, LLS 90% of wafer - max. 20 >0.30 um, TTV AEPI max. 2%, RRV AEPI max. 4%.
Economical parameters
Cena <100USD/AEPI deska
Application category by cost
—
Owner IČO
26821532
Owner name
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o., právní nástupce
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—