All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

ALD reactor for the Minimal Fab concept

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F27711170%3A_____%2F21%3AN0000001" target="_blank" >RIV/27711170:_____/21:N0000001 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    ALD reaktor pro koncept Minimal Fab

  • Original language description

    V rámci řešení projektu TAČR byl vyvinut prototyp ALD reaktoru pro depozici na substráty o průměru 12,5 mm aplikovatelný do zařízení konceptu Minimal Fab za účelem depozice tenkých vrstev Al2O3.

  • Czech name

    ALD reaktor pro koncept Minimal Fab

  • Czech description

Classification

  • Type

    G<sub>prot</sub> - Prototype

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    20201 - Electrical and electronic engineering

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/TM01000039" target="_blank" >TM01000039: Minimal Fab Design of the Atomic Layer Deposition System</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2021

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Data specific for result type

  • Internal product ID

    PT01/SVCS/2021

  • Numerical identification

    G

  • Technical parameters

    Velikost substrátu: ½“ (12,5 mm) Maximální teplota substrátu: 450 °C Maximální zdvih držáku vzorků: 42 mm Design s přírubami pro připojení in-situ elipsometru Design s připojením na Minimal Fab load-lock systém Design s možností instalace a využití mikrovlnné surfatronové, nebo induktivně vázané plazma komory pro PE-ALD procesy

  • Economical parameters

    Laboratorní prototyp nezbytný pro další aplikovaný výzkum a finální komercionalizaci výsledků projektu

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    27711170

  • Owner name

    SVCS Process Innovation s.r.o.

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

  • Licence fee requirement

    A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

  • Web page