Minimal Fab ALD tool prototype

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F27711170%3A_____%2F22%3AN0000001" target="_blank" >RIV/27711170:_____/22:N0000001 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Prototyp Minimal Fab ALD zařízení
Original language description
V rámci řešení projektu TAČR byl vyvinut prototyp Minimal Fab ALD zařízení pro depozice tenkých vrstev Al2O3 na Si substráty o průměru 12,5 mm.
Czech name
Prototyp Minimal Fab ALD zařízení
Czech description
—

Project
<a href="/en/project/TM01000039" target="_blank" >TM01000039: Minimal Fab Design of the Atomic Layer Deposition System</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2022
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Internal product ID
PT01/SVCS/2022
Numerical identification
PT01/SVCS/2022
Technical parameters
Velikost substrátu: ½“ (12,5 mm) Maximální teplota substrátu: 450 °C Maximální zdvih držáku vzorků: 42 mm Design s přírubami pro připojení in-situ elipsometru Design s možností instalace a využití mikrovlnné surfatronové, nebo induktivně vázané plazmatické komory pro PE-ALD procesy
Economical parameters
Laboratorní prototyp nezbytný pro další aplikovaný výzkum a finální komercionalizaci výsledků projektu.
Application category by cost
—
Owner IČO
27711170
Owner name
SVCS Process Innovation s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—

Result description