Proven technology for production of planar optical devices
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F29137756%3A_____%2F19%3AN0000002" target="_blank" >RIV/29137756:_____/19:N0000002 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Ověřená technologie realizace masterů plochých optických prvků
Original language description
Ověřená a ucelená průmyslová technologie, která umožňuje vyrábět mastery plochých optických prvků pro průmyslové hromadné množení v aplikační oblasti vnitřního a venkovního osvětlení, a pro automobilový průmysl.
Czech name
Ověřená technologie realizace masterů plochých optických prvků
Czech description
Ověřená a ucelená průmyslová technologie, která umožňuje vyrábět mastery plochých optických prvků pro průmyslové hromadné množení v aplikační oblasti vnitřního a venkovního osvětlení, a pro automobilový průmysl.
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
—
OECD FORD branch
21100 - Other engineering and technologies
Result continuities
Project
<a href="/en/project/EG15_018%2F0004653" target="_blank" >EG15_018/0004653: The development of special microstructures and nanostructures at the company API Optix Ltd.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2019
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data specific for result type
Internal product ID
SLW2019
Numerical identification
—
Technical parameters
Rychlost zápisu SLW: 1 cm2/hod (výška reliéfu max.20 mikronů). Replikace masterů (NlL) s přesností (3 sigma) pod 50 mikronů. Průmyslová reprodukovateInost hlubokých reliéfů. Drsnost záznamu reliéfů šedotónové (3D) litografie lepší než limit požadovaný pro celkovou optickou kvalitu výsledného prvku ploché optiky. Robustnost a stabilita zařizení SLW umožňující expozice masterů vyžadujících alespoň 14 denní záznam.
Economical parameters
Zvýšení obratu, vstup na nové trhy
Application category by cost
—
Owner IČO
29137756
Owner name
IQS nano s.r.o.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Licence fee requirement
—
Web page
—