Investigations of collisional plasma sheath in the vicinity of planar probe

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210164" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210164 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Investigations of collisional plasma sheath in the vicinity of planar probe
Original language description
The self-consistent model of processes in argon plasma sheath is presented in our study. The scattering processes are simulated stochastically by means of Monte Carlo method. The motion of charged particles in a non-uniform electric Żeld is solved by theVerlet algorithm. The developed model includes only two important processes, i.e. elastic scattering of electrons on argon neutrals and the resonance charge transfer for positive argon ions. Our results obtained by the computer modelling for two variousressures in DC discharge in an argon gas are compared.
Czech name
Zkoumání kolizní plazmy v sousedství rovinného vzorku.
Czech description
Prezentuje se model procesů v argonové plazmě . Rozptylové procesy jsou simulovány stochasticky metodou Monte Carlo. Pohyb nabitých částic v nestoejnorodém elektrickém poli je řešen Verletovým algoritmem. Vyvinutý model zahrnuje pouze dva důležité proces, t.j. elastický rozptyl eketronů na argonových neutrálech a rezonanční přenos náboje pro pozitivní argonové ionty. Jsou porovnávány naše výsledky získané počítačřovým modelováním pro dva různé tlaky v stejnoisměrném výboji v argonu.

Project
<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)