Surface modification of thin layers TiO2/PECVD.
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F08%3A%230000404" target="_blank" >RIV/46747885:24210/08:#0000404 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD.
Original language description
Pro praktické využití fotokatalytického TiO2 je nutné zvládnutí technologie, která zajistí depozici tenkých TiO2 vrstev s dostatečnou fotokatalytickou aktivitou a adhezí k substrátu. Podmínky depozic by měly být takové, aby bylo možno použít i teplotně citlivé substráty. Těchto požadavků je možno docílit při depozici TiO2 vrstev metodou PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) s vhodně zvolenými depozičními podmínkami. Omezujícím faktorem pro dosažení vysoké fotoaktivity je především teplota,která má zásadní vliv na růst krystalové struktury nezbytné pro fotokatalytickou aktivitu.
Czech name
Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD.
Czech description
Pro praktické využití fotokatalytického TiO2 je nutné zvládnutí technologie, která zajistí depozici tenkých TiO2 vrstev s dostatečnou fotokatalytickou aktivitou a adhezí k substrátu. Podmínky depozic by měly být takové, aby bylo možno použít i teplotně citlivé substráty. Těchto požadavků je možno docílit při depozici TiO2 vrstev metodou PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) s vhodně zvolenými depozičními podmínkami. Omezujícím faktorem pro dosažení vysoké fotoaktivity je především teplota,která má zásadní vliv na růst krystalové struktury nezbytné pro fotokatalytickou aktivitu.
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
JK - Corrosion and material surfaces
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
Nanomateriály a Fotokatalýza : 2. Seminář centra Nanopin.
ISBN
978-80-7080-681-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
3
Pages from-to
—
Publisher name
VŠCHT Praha
Place of publication
Praha
Event location
Zámek Liblice.
Event date
Jan 1, 2008
Type of event by nationality
CST - Celostátní akce
UT code for WoS article
—