All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Technology of beam splitter fabrication on CaF2 substrate with following optical parameters: angle of incidence 45°± 0.25°, transmission of p-polarization Tp > 95% for 266 nm, reflectivity of s-polarization Rs > 99.5% for 266 nm,Extinction ratios Tp/Ts > 200:1, Rs/Rp > 100:1

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F47677023%3A_____%2F20%3AN0000022" target="_blank" >RIV/47677023:_____/20:N0000022 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Technologie výroby dělicí vrstvy na substrátu CaF2 s optickými parametry: úhel dopadu AOI45°± 0.25°, propustnost p-složky Tp > 95% pro 266 nm, odrazivost s-složky Rs > 99.5% pro 266 nm,extinkční poměry Tp/Ts > 200:1, Rs/Rp > 100:1

  • Original language description

    Technologie výroby optických vrstev pomocí reaktivního magnetronového naprašování za asistence plasmatu. Depozice vysokoindexového dielektrického materiálu HfO2 v kombinaci s nízkoindexovým SiO2 splňující požadavky na propustnost p-složky polarizace Tp >95% a s-složky Rs >99,5% za dodržení extinkčního poměru Tp/Ts > 200:1 a Rp/Rs > 100:1 na λ = 266 nm pro úhly dopadu 45° ± 0,25° na krystalickém materiálu CaF2 v Müllerově orientaci <1, 1, 1>.

  • Czech name

    Technologie výroby dělicí vrstvy na substrátu CaF2 s optickými parametry: úhel dopadu AOI45°± 0.25°, propustnost p-složky Tp > 95% pro 266 nm, odrazivost s-složky Rs > 99.5% pro 266 nm,extinkční poměry Tp/Ts > 200:1, Rs/Rp > 100:1

  • Czech description

    Technologie výroby optických vrstev pomocí reaktivního magnetronového naprašování za asistence plasmatu. Depozice vysokoindexového dielektrického materiálu HfO2 v kombinaci s nízkoindexovým SiO2 splňující požadavky na propustnost p-složky polarizace Tp >95% a s-složky Rs >99,5% za dodržení extinkčního poměru Tp/Ts > 200:1 a Rp/Rs > 100:1 na λ = 266 nm pro úhly dopadu 45° ± 0,25° na krystalickém materiálu CaF2 v Müllerově orientaci <1, 1, 1>.

Classification

  • Type

    Z<sub>tech</sub> - Verified technology

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    20506 - Coating and films

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/TH03020196" target="_blank" >TH03020196: Advanced methods of preparation of thin film structured systems for optical applications</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2020

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Data specific for result type

  • Internal product ID

    MEO_DP0018_2020_OT01

  • Numerical identification

    OT

  • Technical parameters

    Tp >95% a s-složky Rs >99,5% za dodržení extinkčního poměru Tp/Ts > 200:1 a Rp/Rs > 100:1 na λ = 266 nm pro úhly dopadu 45° ± 0,25° na krystalickém materiálu CaF2

  • Economical parameters

    Bude použito ve vlastní výrobě.

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    47677023

  • Owner name

    Meopta - optika, s.r.o.

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

  • Licence fee requirement

  • Web page