Proven technology for Optimization of coating of micro and nanoreliefs with a thin layer with a high refractive index to achieve maximum diffraction efficiency

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F20%3AN0000005" target="_blank" >RIV/48950076:_____/20:N0000005 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Ověřená technologie optimalizace krytí mikro a nanoreliéfů tenkou vrstvou o vysokém indexu lomu pro dosažení maximální difrakční účinnosti

Original language description

Podstatou technologie je zvýšený optický vjem a čitelnost bezpečnostních prvků v mikro a nano struktuře, kdy míra difrakční účinnosti není ovlivněná variabilitou reprodukce struktury a zároveň i vlastnostmi deponovaného materiálu o vysokém indexu lomu. Vlastností je stabilní charakteristika daného materiálu, kterým se dosáhla maximální možná hodnota ovlivnitelná tímto ukazovatelem a je umožněno sledovat výsledné změny už jen variováním jedné proměnné – charakteristikou mikro a nano struktury.

Czech name

Ověřená technologie optimalizace krytí mikro a nanoreliéfů tenkou vrstvou o vysokém indexu lomu pro dosažení maximální difrakční účinnosti

Czech description

Podstatou technologie je zvýšený optický vjem a čitelnost bezpečnostních prvků v mikro a nano struktuře, kdy míra difrakční účinnosti není ovlivněná variabilitou reprodukce struktury a zároveň i vlastnostmi deponovaného materiálu o vysokém indexu lomu. Vlastností je stabilní charakteristika daného materiálu, kterým se dosáhla maximální možná hodnota ovlivnitelná tímto ukazovatelem a je umožněno sledovat výsledné změny už jen variováním jedné proměnné – charakteristikou mikro a nano struktury.

Type

Z_tech - Verified technology

CEP classification

—

OECD FORD branch

21001 - Nano-materials (production and properties)

Project

<a href="/en/project/FV20020" target="_blank" >FV20020: Photonic structures in safety holograms (Modelling and design of photonic structures for safety holograms)</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2020

Confidentiality

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Internal product ID

2020- OTFV20020-OPT

Numerical identification

2020- OTFV20020-OPT

Technical parameters

Ověřená technologie se skládá z následujících kroků: I. Příprava masterhologramu se sadou variabilních mřížek v mikro a nano struktur II. Příprava kovového přenosového media III. Tepelně-tlakový přenos nanostruktur do polymerního substrátu IV. Deponování substrátu o sadách s různou tloušťkou sulfidu zinečnatého ve vakuové komoře V. Měření optické denzity transmisí na nedifrakčních místech substrátu VI. Vyhodnocování optického vjemu porovnáváním vzorků deponovaných struktur VII. Tepelná laminace substrátu pro zapouzdření deponovaného difrakčního prvku mezi dva kompatibilní substráty pro simulaci podmínek v konečném produktu

Economical parameters

Vyšší kvalita nabízených bezpečnostních hologramů.

Application category by cost

—

Owner IČO

48950076

Owner name

OPTAGLIO a.s.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Licence fee requirement

—

Web page

—