Production Technology of a Functionalized Substrate for Water Splitting via Photolysis
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23220%2F24%3A43973996" target="_blank" >RIV/49777513:23220/24:43973996 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://partnerstvi.fel.zcu.cz" target="_blank" >http://partnerstvi.fel.zcu.cz</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Technologie výroby funkcionalizovaného substrátu pro fotolýzu vody
Original language description
Podstatou ověřené technologie (OT) způsob výroby funcionalizovaných substrátů pro přímou fotolýzu vody využívající plazmonaktivní fotokatalytické vrstvy na kombinaci dvou propojených fotoelektrod, umožňujících produkci kyslíku (HER strana) a vodíku (OER strana). V případě elektrody generující H2 je na povrch mikrostrukturovaného substrátu deponována vrstva plazmonaktivního kovu – mědi, zaručující jak absorpci slunečního světla, tak i elektrickou vodivost substrátů. Následně je na Cu povrch deponována aktivní vrstva sulfidu tantaličitého (TaS2), která je elektrochemicky aktivována. V případě OER elektrody je na Cu povrch deponována katalytická vrstva WO3@CdS, připravená pomocí kombinace hydrotermálních a chemických postupů. Navržený výrobní postup byl úspěšně prakticky ověřen ve společnosti LISS a.s. a je doložen Protokolem o ověření výsledku ze dne 20.6.2024.
Czech name
Technologie výroby funkcionalizovaného substrátu pro fotolýzu vody
Czech description
Podstatou ověřené technologie (OT) způsob výroby funcionalizovaných substrátů pro přímou fotolýzu vody využívající plazmonaktivní fotokatalytické vrstvy na kombinaci dvou propojených fotoelektrod, umožňujících produkci kyslíku (HER strana) a vodíku (OER strana). V případě elektrody generující H2 je na povrch mikrostrukturovaného substrátu deponována vrstva plazmonaktivního kovu – mědi, zaručující jak absorpci slunečního světla, tak i elektrickou vodivost substrátů. Následně je na Cu povrch deponována aktivní vrstva sulfidu tantaličitého (TaS2), která je elektrochemicky aktivována. V případě OER elektrody je na Cu povrch deponována katalytická vrstva WO3@CdS, připravená pomocí kombinace hydrotermálních a chemických postupů. Navržený výrobní postup byl úspěšně prakticky ověřen ve společnosti LISS a.s. a je doložen Protokolem o ověření výsledku ze dne 20.6.2024.
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
—
OECD FORD branch
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TK01030128" target="_blank" >TK01030128: H2PLAZMON - Advanced plasmonic technology for production, storage, and utilization of green hydrogen</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2024
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
22190-OT002-2024
Numerical identification
interní číslo 22190-OT002-2024
Technical parameters
Struktury jsou schopné při osvitu simulovaným slunečním světlem vyrábět cca 250 µmol/cm2 vodíku během jedné provozní hodiny.
Economical parameters
Praktické použití nových materiálů pro fotolytický rozklad vody slunečním zářením se předpokládá u systémových integrátorů realizující zařízení pro výrobu „zeleného“ vodíku zejména pro lokální zdroje energie (stacionární i mobilní), automobily a prostředky hromadné dopravy, telekomunikační stanice. Zde však hraje důležitou roli budoucí orientace systémových integrátorů na různé technologie výroby „zeleného“ vodíku.
Application category by cost
—
Owner IČO
49777513
Owner name
Západočeská univerzita v Plzni; Vysoká škola chemicko-technologická v Praze; Univerzita Jana Evangelisty Purkyně v Ústí nad Labem; LISS a.s.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Licence fee requirement
—
Web page
http://partnerstvi.fel.zcu.cz