Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high Si content

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F05%3A00000250" target="_blank" >RIV/49777513:23520/05:00000250 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high Si content
Original language description
The Zr-Si-N films were deposited using an unbalanced dc reactive magnetron sputtering of the alloyed ZrSi2 target in a mixture of argon and nitrogen onto steel and silicon substrates. This article reports on a systematic investigation of depences of the
Czech name
Struktura a vlastnosti magnetronově naprašovaných vrstev Zr-Si-N s vysokým obsahem křemíku
Czech description
Článek se zabývá systematickým zkoumáním závislostí struktury, prvkového složení, mechanických vlastností a oxidační odolnosti vrstev Zr-Si-N s vysokým obsahem Si na depozičních parametrech. Vrstvy byly deponovány magnetronovým naprašováním z keramického

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)