Controlled reactive plasma deposition of a protective dielectric layer for glass connector seals

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F24%3A43974430" target="_blank" >RIV/49777513:23520/24:43974430 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Řízená reaktivní plazmová depozice ochranné dielektrické vrstvy pro skleněné zátavy konektorů
Original language description
Cílem výzkumu byla příprava ochranné dielektrické vrstvy na bázi Zr-O na skleněné zátavy konektorů. V rámci přípravy vrstev byl navržen a vyroben speciální přípravek k uchycení konektoru, který zajišťuje dostatečný tepelný kontakt s držákem substrátů. Byly provedeny testovací depozice pro nalezení optimálních parametrů procesu a kontrolní XRD analýzy pro ověření vhodné struktury vrstev. Ochranné vrstvy byly naneseny ve dvou variantách (dvě různé tloušťky vrstev) a byla provedena XRD analýza vrstev na referenčních vzorcích.
Czech name
Řízená reaktivní plazmová depozice ochranné dielektrické vrstvy pro skleněné zátavy konektorů
Czech description
Cílem výzkumu byla příprava ochranné dielektrické vrstvy na bázi Zr-O na skleněné zátavy konektorů. V rámci přípravy vrstev byl navržen a vyroben speciální přípravek k uchycení konektoru, který zajišťuje dostatečný tepelný kontakt s držákem substrátů. Byly provedeny testovací depozice pro nalezení optimálních parametrů procesu a kontrolní XRD analýzy pro ověření vhodné struktury vrstev. Ochranné vrstvy byly naneseny ve dvou variantách (dvě různé tloušťky vrstev) a byla provedena XRD analýza vrstev na referenčních vzorcích.

Publication year
2024
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Similar results(10)