Growth of nanostructured anatase TiO2 films by pulsed laser deposition
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F12%3A43916268" target="_blank" >RIV/49777513:23640/12:43916268 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
slovinština
Original language name
Rast nanoštrukturovaných TiO2 anatásových vrstiev pomocou pulznej laserovej depozície
Original language description
Článek je zaměřen na růst nanostrukturovaných anatasových tenkých vrstev TiO2 deponovaných pulsní laserovou depozicí (PLD). Vrstvy byly vytvořeny ve dvou krocích. První krok sestával z růstu pomocí PLD (při pokojové teplotě a 77 K) a druhý krok zahrnovalžíhání při 600 °C po dobu 60 minut. Výsledné vrstvy v původním stavu byly amorfní, porézní při obou depozičních teplotách. Více porózní struktura byla nalezena na vzorcích s chlazeným substrátem. Následné žíhání způsobilo transformaci amorfního stavu dočisté anatasové fáze, což je slibuje vlastnosti pro fotokatalytické aplikace.
Czech name
—
Czech description
—
Classification
Type
O - Miscellaneous
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
V - Vyzkumna aktivita podporovana z jinych verejnych zdroju
Others
Publication year
2012
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů