Lithographic masks for manufacturing of microelectrochemical sensors
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F12%3A43917670" target="_blank" >RIV/49777513:23640/12:43917670 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Litografické masky pro přípravu mikroelektrochemických senzorů
Original language description
Prezentujeme litografické masky pro přípravu různých typů mikroelektrochemických senzorů. Litografická maska je 4" skleněný substrát s deponovanou tenkou vrstvou (0,1 ?m) nízko reflektivního chromu (reflektivita: 12 +- 2 %). Nízká reflektivita chromu umožňuje použití automatického zaostřování při expozici na bezmaskovém litografickém systému LW405B, založeného na vyhodnocení velikosti difrakčních prstenců. Do této chromové vrstvy je litograficky strukturován požadovaný vzor mikroelektrodového pole. Takto vyrobená maska je dále využívána jako předloha pro UV litografii v procesu výroby zlatých mikroelektrodových polí, které jsou klíčovou součástí mikroelektrochemických senzorů. Prezentovaná maska byla použita při výrobě mikroelektrodového pole senzoru pro detekci segmentovaného toku.
Czech name
Litografické masky pro přípravu mikroelektrochemických senzorů
Czech description
Prezentujeme litografické masky pro přípravu různých typů mikroelektrochemických senzorů. Litografická maska je 4" skleněný substrát s deponovanou tenkou vrstvou (0,1 ?m) nízko reflektivního chromu (reflektivita: 12 +- 2 %). Nízká reflektivita chromu umožňuje použití automatického zaostřování při expozici na bezmaskovém litografickém systému LW405B, založeného na vyhodnocení velikosti difrakčních prstenců. Do této chromové vrstvy je litograficky strukturován požadovaný vzor mikroelektrodového pole. Takto vyrobená maska je dále využívána jako předloha pro UV litografii v procesu výroby zlatých mikroelektrodových polí, které jsou klíčovou součástí mikroelektrochemických senzorů. Prezentovaná maska byla použita při výrobě mikroelektrodového pole senzoru pro detekci segmentovaného toku.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
CI - Industrial chemistry and chemical engineering
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/ED2.1.00%2F03.0088" target="_blank" >ED2.1.00/03.0088: Centre of the New Technologies and Materials</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2012
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
NTC-FVZ-12-019
Numerical identification
—
Technical parameters
4" skleněná maska pokrytá tenkou vrstvou chromu (0,1 ? m). V chromové vrstvě je vyleptán vzor mikroelektrodového pole skládající se z 14 párů mikroelektrod o šířce 100 ?m a rozestupem 100 ?m. Adolf Bláha, Západočeská univerzita v Plzni (IČO 49777513), Nové technologie - výzkumné centrum, Univerzitní 8, 306 14 Plzeň, 377634714, blahaado@ntc.zcu.cz. Viz odkaz http://www.ntc.zcu.cz/vysledky/fv/NTC-FVZ-12-019.html
Economical parameters
Výsledek je využíván příjemcem Západočeská univerzita v Plzni (IČO 49777513), ekonomické parametry se neuvádí.
Application category by cost
—
Owner IČO
49777513
Owner name
Západočeská univerzita v Plzni
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
Licence fee requirement
—
Web page
—