Thermally formed silicone foils for precise x-ray optics
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F12%3A43894772" target="_blank" >RIV/60461373:22310/12:43894772 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/68407700:21340/12:00192535
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Tepelně tvarované křemíkové plátky pro přesnou rentgenovou optiku
Original language description
Výsledný křemíkový plátek má přesný optický tvar válcový, kulovitý, parabolický, hyperbolický, eliptický kuželovitý. Jeho funkční odrazový povrchu má odchylkou od požadovaného tvaru pod 20 ?m a vysokou optickou kvalitu se střední hodnotou mikrodrsnoti Rapod 1,0 nm.
Czech name
Tepelně tvarované křemíkové plátky pro přesnou rentgenovou optiku
Czech description
Výsledný křemíkový plátek má přesný optický tvar válcový, kulovitý, parabolický, hyperbolický, eliptický kuželovitý. Jeho funkční odrazový povrchu má odchylkou od požadovaného tvaru pod 20 ?m a vysokou optickou kvalitu se střední hodnotou mikrodrsnoti Rapod 1,0 nm.
Classification
Type
F<sub>uzit</sub> - Utility model
CEP classification
JJ - Other materials
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/IAAX01220701" target="_blank" >IAAX01220701: Material and X-Ray Optical Properties of Formed Silicon Monocrystals</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2012
Confidentiality
U - Předmět řešení projektu je utajovanou skutečností podle zvláštních právních předpisů nebo je skutečností, jejíž zveřejnění by mohlo ohrozit činnost zpravodajské služby. Údaje o projektu jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné
Data specific for result type
Patent/design ID
23543
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
—
Owner name
České vysoké učení technické v Praze, Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská; Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, Praha, CZ
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence