CARBON NANOLAYERS DEPOZITED ON LASER TREATED PLLA FILM

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F15%3A43900267" target="_blank" >RIV/60461373:22310/15:43900267 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/44555601:13440/15:43887444

Result on the web

<a href="http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2015_11_879-884.pdf" target="_blank" >http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2015_11_879-884.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

UHLÍKOVÉ NANOVRSTVY DEPONOVANÉ NA LASEREM MODIFIKOVANÝ FILM Z KYSELINY POLY(L-MLÉČNÉ)

Original language description

Práce se zabývá charakterizací povrchu modifikovaného substrátu. Studovaným materiálem je PLLA (kyselina poly(L-mléčná)). Substrát je modifikován laserovým svazkem za proměnných podmínek (počet pulzů, laserový tok). Na modifikovaný povrch je z různých vzdáleností deponována uhlíková vrstva. Následně jsou vybrané substráty tepelně namáhány. V práci je studován vliv parametrů modifikace na polaritu povrchu, povrchovou morfologii a drsnost, chemické složení povrchu a plošný odpor vzorků. Charakterizace jeprovedena pomocí celé řady metod a stanovení jako např. goniometrie, mikroskopie atomárních sil, rentgenová spektroskopie, modifikovaná Ohmova metoda, stanovení elektrokinetického potenciálu. Laserová modifikace způsobuje nárůst kontaktního úhlu a povrchové drsnosti. Vlivem laserové modifikace klesá obsah kyslíku v povrchové vrstvě, s tím souvisí pokles ?-potenciálu. Depozice uhlíkové vrstvy způsobuje pokles hodnot kontaktního úhlu. Je-li vrstva kompaktní, dochází ke snížení drsnosti, v

Czech name

UHLÍKOVÉ NANOVRSTVY DEPONOVANÉ NA LASEREM MODIFIKOVANÝ FILM Z KYSELINY POLY(L-MLÉČNÉ)

Czech description

Práce se zabývá charakterizací povrchu modifikovaného substrátu. Studovaným materiálem je PLLA (kyselina poly(L-mléčná)). Substrát je modifikován laserovým svazkem za proměnných podmínek (počet pulzů, laserový tok). Na modifikovaný povrch je z různých vzdáleností deponována uhlíková vrstva. Následně jsou vybrané substráty tepelně namáhány. V práci je studován vliv parametrů modifikace na polaritu povrchu, povrchovou morfologii a drsnost, chemické složení povrchu a plošný odpor vzorků. Charakterizace jeprovedena pomocí celé řady metod a stanovení jako např. goniometrie, mikroskopie atomárních sil, rentgenová spektroskopie, modifikovaná Ohmova metoda, stanovení elektrokinetického potenciálu. Laserová modifikace způsobuje nárůst kontaktního úhlu a povrchové drsnosti. Vlivem laserové modifikace klesá obsah kyslíku v povrchové vrstvě, s tím souvisí pokles ?-potenciálu. Depozice uhlíkové vrstvy způsobuje pokles hodnot kontaktního úhlu. Je-li vrstva kompaktní, dochází ke snížení drsnosti, v

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

JJ - Other materials

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GAP108%2F12%2F1168" target="_blank" >GAP108/12/1168: Carbon nanolayers, nanostructures and nanoparticles on substrates for potential application in medicine and electronics</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2015

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Chemické listy

ISSN

0009-2770

e-ISSN

—

Volume of the periodical

109

Issue of the periodical within the volume

11

Country of publishing house

CZ - CZECH REPUBLIC

Number of pages

6

Pages from-to

879-884

UT code for WoS article

000368261500011

EID of the result in the Scopus database

—