Optimization of the silylation procedure of thin mesoporous SiO2 films with cationic trimethylaminopropylammonium groups
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388955%3A_____%2F07%3A00088024" target="_blank" >RIV/61388955:_____/07:00088024 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Optimization of the silylation procedure of thin mesoporous SiO2 films with cationic trimethylaminopropylammonium groups
Original language description
Mesoporous silicas are excellent hosts for incorporation of various guest molecules. The properties of the relatively inert silica surface can be drastically changes by the covalent grafting of functional groups, such as thiol-, amino- or alkylammonium ones, by silylation with chloro- or alkoxysilanes. While the silylation procedure has been optimized for powdered mesoporous silica materials with differing porosity, it has not been developed for mesoporous silica thin films yet, even if the obvious differences in diffusion properties and pore accessibility of powders and films would imply the different conditions needed for their silylation. Recently we have faced a serious problem of poor reproducibility of silylation procedure of silica films when investigating their applicability as a matrix for anchoring electrochemically active species and dye molecules. Therefore, the optimization of their silylation procedure has been aimed at in this communication.
Czech name
Optimalizace silylační procedury pro tenké mesoporézní filmy SiO2 s kationickými trimethylaminopropylamoniovými skupinami
Czech description
Vývoj postsyntetické silylační procedury pro tenké mesoporézní filmy SiO2 s kationickými trimethylaminopropylamoniovými skupinami, zaměřený na účinnou a reprodukovatelnou inkorporaci anionických molekul, jasně ukázal rozdílnou silylační reaktivitu filmůa práškových mesoporézních materiálů. Hlavní rozdíl je v případě filmů způsoben omezenou dostupností povrchu siliky pro silylační činidlo, což má za následek tendenci k blokování pórů pro delší reakční časy. Nízká koncentrace silylačního činidla a krátkéreakční časy jsou proto nutnou podmínkou pro reprodukovatelnou silylaci tenkých mesoporézních filmů. Dále krátká aktivace povrchu v mírně alkalickém roztoku umožňuje dosáhnout optimální silylační efektivity.
Classification
Type
C - Chapter in a specialist book
CEP classification
CF - Physical chemistry and theoretical chemistry
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Research centre for nanostructures engineering</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>R - Projekt Ramcoveho programu EK
Others
Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Book/collection name
Recent progress in mesostructured materials
ISBN
978-0-444-53084-4
Number of pages of the result
5
Pages from-to
573-577
Number of pages of the book
—
Publisher name
Elsevier B.V./Ltd
Place of publication
Amsterdam
UT code for WoS chapter
—