The complementary RBS and PIXE study of erbium incorporated into glass surface for optical waveguide structures

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F04%3A00105670" target="_blank" >RIV/61389005:_____/04:00105670 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
The complementary RBS and PIXE study of erbium incorporated into glass surface for optical waveguide structures
Original language description
The complementary RBS and PIXE study of erbium incorporated into glass surface for optical waveguide structures
Czech name
Komplementární studie Er incorporovaného ve skleněných vrstvách určených pro optické vlnovodné struktury metodami RBS a PIXE
Czech description
Jaderné analytické metody zpětného odrazu iontů RBS a rentgenové fluorescence PIXE byly použity pro studium hloubkových profilů Er zakomponovaných do skleněných struktur metodou nízkoteplotní difůze iniciované elektrickým polem. RBS umožňuje stanovit hloubkový profil koncentrace Er s hloubkovým rozlišením 10nm a velkou citlivostí, je však omezena pozadím pocházejícím ze substrátu, proto může stanovit hloubkový profil pouze do cca 1 mikrometru. PIXE je metoda, která určuje integrální množství Er, a protosrovnáním těchto dvou metod můžeme přesněji odhadnout skutečnou hloubku, do které lze danou metodou difundovat Er. Množství Er ve skleněném substrátu je dáno difůzním časem, použitým proudem a váhovým procentem Er v tavenině z níž dochází k difůzi a v nepolední řadě následnou tepelnou úpravou vzorků.

Project
<a href="/en/project/KSK1010104" target="_blank" >KSK1010104: Condensed matter physics and materials science</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Proceedings of the International Conference on Particle Induced X-Ray Emission and its Analytical Applications, PIXE 2004 /10./
ISBN
961-6303-62-7
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
3
Pages from-to
"852.1"-"852.3"
Publisher name
J. Stefan Institute
Place of publication
Portoroz
Event location
Portoroz
Event date
Jun 4, 2004
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Result description