All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Measurement of coating layers on electronic capacitor components

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F25%3A73635254" target="_blank" >RIV/61989592:15310/25:73635254 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Měření vrstev laku na elektronických součástkách kondenzátorů

  • Original language description

    Byla posouzena možnost měření tloušťky laku na pouzdrech kondenzátorů pomocí konfokální mikroskopie. K měření byl použit konfokální mikroskop pracující na vlnové délce 405 nm. Pro správné stanovení tloušťky bylo nejprve nutné určit index lomu laku na pracovní vlnové délce, který byl změřen pomocí spektrální elipsometrie na referenčních vrstvách připravených na křemíkových podložkách. Tloušťka laku byla následně měřena přímo na vybraných pouzdrech kondenzátorů v několika reprezentativních oblastech. Byla zjištěna nehomogenita rozložení vrstvy související s tvarovými odchylkami povrchu pouzder. Doplňková měření drsnosti a vlnitosti povrchu pouzder bez laku ukázala, že morfologie podkladu významně ovlivňuje lokální profil a rovnoměrnost nanesené vrstvy. Bylo potvrzeno, že konfokální mikroskopie je vhodnou metodou pro profilové měření tloušťky laku na těchto typech součástek. Při interpretaci výsledků je však nutné zohlednit povrchovou topografii a přesné stanovení indexu lomu měřeného materiálu.

  • Czech name

    Měření vrstev laku na elektronických součástkách kondenzátorů

  • Czech description

    Byla posouzena možnost měření tloušťky laku na pouzdrech kondenzátorů pomocí konfokální mikroskopie. K měření byl použit konfokální mikroskop pracující na vlnové délce 405 nm. Pro správné stanovení tloušťky bylo nejprve nutné určit index lomu laku na pracovní vlnové délce, který byl změřen pomocí spektrální elipsometrie na referenčních vrstvách připravených na křemíkových podložkách. Tloušťka laku byla následně měřena přímo na vybraných pouzdrech kondenzátorů v několika reprezentativních oblastech. Byla zjištěna nehomogenita rozložení vrstvy související s tvarovými odchylkami povrchu pouzder. Doplňková měření drsnosti a vlnitosti povrchu pouzder bez laku ukázala, že morfologie podkladu významně ovlivňuje lokální profil a rovnoměrnost nanesené vrstvy. Bylo potvrzeno, že konfokální mikroskopie je vhodnou metodou pro profilové měření tloušťky laku na těchto typech součástek. Při interpretaci výsledků je však nutné zohlednit povrchovou topografii a přesné stanovení indexu lomu měřeného materiálu.

Classification

  • Type

    V<sub>souhrn</sub> - Summary research report

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Result continuities

  • Project

  • Continuities

    N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju

Others

  • Publication year

    2025

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Data specific for result type

  • Number of pages

    6

  • Place of publication

  • Publisher/client name

    Kyocera s.r.o., Lanškroun

  • Version