Interaction between the Silyl and Silylen Centres in the Deposits Prepared by Pulsed Laser Ablation of Silicon Monoxide and Ammonia, Methylamine and Dimethylamine

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F05%3A00028685" target="_blank" >RIV/67985858:_____/05:00028685 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Interaction between the Silyl and Silylen Centres in the Deposits Prepared by Pulsed Laser Ablation of Silicon Monoxide and Ammonia, Methylamine and Dimethylamine
Original language description
Silicon suboxide films were prepared by TEA CO2 pulsed laser ablation (PLA) of the silicon monoxide target in the Kr atmosphere. The deposits were examined by means of Fourier transformed infrared spectroscopy (FTIR), electron paramagnetic resonance spectroscopy (EPR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
Czech name
Interakce mezi silylovými a silylenovými centry v depozitech připravených pulsní laserovou ablací oxidu křemnatého a amoniakem, methylaminem a dimethyaminem
Czech description
Filmy suboxidu křemíku byly připraveny TEA CO2 pulsní laserovou ablací terčíku z oxidu křemnatého v atmosféře kryptonu. Depozity byly analyzovány Fourierovou infračervenou spektroskopií (FTIR), elektronovou paramagnetickou rezonanční spektroskopií (EPR)a rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií (XPS).

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CH - Nuclear and quantum chemistry, photo chemistry
OECD FORD branch
—

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)