Colloidal diffuse source of phosphorus for preparing doped of the type N silicon

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F19%3A00523530" target="_blank" >RIV/67985882:_____/19:00523530 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://hdl.handle.net/11104/0307886" target="_blank" >http://hdl.handle.net/11104/0307886</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N
Original language description
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N
Czech name
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N
Czech description
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N

Project
<a href="/en/project/FV30151" target="_blank" >FV30151: Colloidal diffuse sources for the technology of power semiconductor devices</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2019
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Patent/design ID
32924
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
—
Owner name
Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Result description