Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F19%3A00523531" target="_blank" >RIV/67985882:_____/19:00523531 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="http://hdl.handle.net/11104/0307887" target="_blank" >http://hdl.handle.net/11104/0307887</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Original language description
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Czech name
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Czech description
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Classification
Type
F<sub>uzit</sub> - Utility model
CEP classification
—
OECD FORD branch
20201 - Electrical and electronic engineering
Result continuities
Project
<a href="/en/project/FV30151" target="_blank" >FV30151: Colloidal diffuse sources for the technology of power semiconductor devices</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2019
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
33261
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
—
Owner name
Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence