Technology of relief diffractive structures mode by e-beam lithography
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F03%3A00047118" target="_blank" >RIV/68081731:_____/03:00047118 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií
Original language description
j) Byla vyvinuta technologie, která umožňuje pomocí elektronové litografie vytvářet reliéfní struktury binární i vícestupňové. Pomocí těchto struktur lze průmyslové vyrábět tzv.syntetické bezpečnostní hologramy pomocí jen elektronové litografie.
Czech name
Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií
Czech description
j) Byla vyvinuta technologie, která umožňuje pomocí elektronové litografie vytvářet reliéfní struktury binární i vícestupňové. Pomocí těchto struktur lze průmyslové vyrábět tzv.syntetické bezpečnostní hologramy pomocí jen elektronové litografie.
Classification
Type
X - Unclassified
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/IBS2065014" target="_blank" >IBS2065014: Submicrometer relief diffractive structures made by electron-beam lithography.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2003
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů