Stabilization of semiconductor lasers by fiber Bragg gratings for absolute laser interferometry

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F06%3A00048861" target="_blank" >RIV/68081731:_____/06:00048861 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Stabilization of semiconductor lasers by fiber Bragg gratings for absolute laser interferometry

Original language description

We present application of methods for calculation of parameters of apodized fiber Bragg gratings (FBG). We used combination of methods based on layered dielectric media (LDM) and the transfer matrix. On the contrary to the other calculation techniques the LDM method is based on sequence of thin films of dielectric media assembled in the direction of wave propagation. The combination of the LDM method and the transfer matrix method can be used to the calculation of arbitrary fiber gratings with high precision. For this designed apodized FBG we calculated the phase mask to manufacture by interference patterns. The phase mask and the fixation bottom of the fiber were made by e-beam lithography to achieve highly precise stability during manufacturing. We present the set-up of this system for writing FBG by pulsed UV laser with wavelength 266nm. Measurement of commercially available FBG with comparison to our calculated FBG is presented.

Czech name

Stabilizace polovodičových laserů pomocí vláknových Braggových mřížek pro laserovou interferometrii

Czech description

V článku jsou prezentovány aplikace různých simulačních metod pro výpočet parametrů apodizovaných vláknových Braggových mřížek. V našem případě jsme využili kombinaci metod vrstveného dielektrika (LDM) a přenosové matice. Ve srovnání se zbývajícími technikami simulace, využívá metoda LDM postupný výpočet jednotlivých vrstev ve směru šíření světelné vlny. Právě kombinací uvedených metod jsme schopni provést simulaci libovolného tvaru vláknové mřížky s velmi vysokou přesností. Pro takto navrženou vláknovou mřížku jsme navrhli fázovou masku, pomocí které lze vytvořit interferenční pole, které způsobí zápis mřížky do optického vlákna. Fázová maska i držák vlákna byly vyrobeny elektronovým litografem tak, aby bylo docíleno co největší přesnosti při zápisu mřížky. V článku je prezentována tato sestava a jsou prezentovány naměřené výsledky různých vláknových struktur.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BH - Optics, masers and lasers

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/KJB200650503" target="_blank" >KJB200650503: Semiconductor laser sources with fiber gratings for precision laser interferometry and spectroscopy</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Proceedings of SPIE (Vol. 6184) Semiconductor Lasers and Laser Dynamics II

ISBN

0-8194-6240-3

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

8

Pages from-to

—

Publisher name

SPIE

Place of publication

Bellingham

Event location

Strasbourg

Event date

Apr 3, 2006

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—