Technology of manufacturing of advanced PDMS microfluidic chips with inner walls resistant to organic solvents and small nonpolar organic molecules
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F16%3A00470911" target="_blank" >RIV/68081731:_____/16:00470911 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám
Original language description
Technologie pro povrchovou úpravu PDMS mikrofluidních kanálků pomocí ozonu a oxidů dusíku, sloužící ke zvýšení jejich chemické odolnosti.
Czech name
Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám
Czech description
Technologie pro povrchovou úpravu PDMS mikrofluidních kanálků pomocí ozonu a oxidů dusíku, sloužící ke zvýšení jejich chemické odolnosti.
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
BH - Optics, masers and lasers
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Others
Publication year
2016
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
APL-2016-16
Numerical identification
APL-2016-16
Technical parameters
Technologie je založena na vhánění tlakového vzduchu zbaveného vlhkosti a nečistot do prostoru ionizátoru, kde probíhá doutnavý elektrický výboj (5-20 kV), který ionizuje kyslíkové a dusíkové molekuly, čímž je generován ozon (O3) a oxidy dusíku (NOx). Vzniklá směs plynů se silnými oxidačními vlastnostmi je vháněna kapilárou do kanálků mikrofluidního čipu vytvořeného z PDMS (poly-(dimethylsiloxan)), případně z kombinace PDMS a skla. Ozon přítomný ve směsi rychle aktivuje vnitřní stěny kanálků ze skla a PDMS a oxiduje organické nečistoty za vzniku CO2. Při delší expozici (1 hodina a více) PDMS výrazně oxiduje v povrchové vrstvě až na oxid křemičitý (SiO2). Takto upravený povrch vykazuje oproti běžnému PDMS zvýšenou odolnost k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám. Vrstva SiO2 efektivně zabraňuje difuzi těchto molekul do PDMS. Použitý doutnavý výboj je generován pomocí hrotových elektrod se vzduchem jako dielektrikem, nebo mřížkovými elektrodami se skleněným dielektrikem.
Economical parameters
Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu. Je uzavřena smlouva o využití výsledku s firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) s dohodnutým rozdělením výnosů. Kontakt: Mgr. Zdeněk Pilát, Ph.D., pilat@isibrno.cz
Application category by cost
—
Owner IČO
68081731
Owner name
Ústav přístrojové techniky AV ČR
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—