SMV-2024-02: Relief optical diffractive elements metrology

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F24%3A00602556" target="_blank" >RIV/68081731:_____/24:00602556 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
SMV-2024-02: Metrologie reliéfních optických difrakčních prvků
Original language description
Výzkum v oblasti metrologie reliéfních optických mikrostruktur připravených nanoimprint litografií. Pomocí elektronové rastrovací mikroskopie (SEM) a konfokální laserové rastrovací mikroskopie (CLSM) byla zkoumána kvalita přenosu mikrostruktury ze silikonové předlohy do UV tvrditelného polymeru. Z nanoimprint replik optických mikrostruktur se pomocí výbrusů připravily řezy mikrostruktur a ty posloužily k měření reziduální vrstvy laku pod mikrostrukturami pomocí CLSM.
Czech name
SMV-2024-02: Metrologie reliéfních optických difrakčních prvků
Czech description
Výzkum v oblasti metrologie reliéfních optických mikrostruktur připravených nanoimprint litografií. Pomocí elektronové rastrovací mikroskopie (SEM) a konfokální laserové rastrovací mikroskopie (CLSM) byla zkoumána kvalita přenosu mikrostruktury ze silikonové předlohy do UV tvrditelného polymeru. Z nanoimprint replik optických mikrostruktur se pomocí výbrusů připravily řezy mikrostruktur a ty posloužily k měření reziduální vrstvy laku pod mikrostrukturami pomocí CLSM.

Publication year
2024
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Similar results(10)