Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50)
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F01%3A00024675" target="_blank" >RIV/68378271:_____/01:00024675 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50)
Original language description
Final report deals with review of solution of this COST project with main conclusions: 1. Magnetron sputtering, ECR PA CVD or low pressure plasma jet systems are suitable for preparation of tribological coatings; 2. All amorphous carbon and also carbon nitride films were elastic, hard, and have a good tribological properties.Application of RF bias -100 V improves a lot these properties
Czech name
Příprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami
Czech description
Závěrečná zpráva se zabývá přehledem řešení tohoto projektu COST s nejdůležitějšími závěry: 1. Magnetronové naprašování, ECR PA CVD nebo tryskové systémy s nízkotlakou plazmou jsou vhodné pro depozici tribologických povlaků; 2. Všechny filmy z amorfníhouhlíku nebo karbon-nitridové byly elastické, tvrdé a měly dobré tribologické vlastnosti.Tyto vlastnosti vylepšuje depozice při RF předpětí -100
Classification
Type
V<sub>x</sub> - Unclassified - Research report containing classified information
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/OC%20516.50" target="_blank" >OC 516.50: Preparation of Wear Resistant Low Friction Coatings by Magnetrons and RF Plasma-Chemical Systems with Hollow Cathodes</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2001
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Number of pages
4
Place of publication
Luxembourg
Publisher/client name
—
Version
—