Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025706" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00025706 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry
Original language description
We present measurements of in situ nanometric-resolution topographical modifications of thin niobium layers subjected to strong electric fields. The Nb layers, deposited on a fused silica substrate, are interferometrically flash probed using soft x-ray laser XRL at the wavelength of 21.2 nm.
Czech name
Měření nanometrických deformací tenkých Nb vrstev za přítomnosti silného elektrického pole s pomocí rentgenové interferometrie
Czech description
Bylo provedeno měření modifikací povrchu tenkých Nb vrstev vystavených silnému elektrickému poli s nanometrickým rozlišením. Nb vrstvy byly interferometricky sondovány rentgenovým laserem na vlnové délce 21.2 nm.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BH - Optics, masers and lasers
OECD FORD branch
—

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)