Capillary-discharge 46.9-nm laser-induced damage to a-C thin films exposed to multiple laser shots below single-shot damage threshold

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F07%3A00086335" target="_blank" >RIV/68378271:_____/07:00086335 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Capillary-discharge 46.9-nm laser-induced damage to a-C thin films exposed to multiple laser shots below single-shot damage threshold
Original language description
High-surface-quality amorphous carbon (a-C) optical coatings with a thickness of 45 nm, deposited by magnetron sputtering on a silicon substrate were irradiated by the focused beam of capillary-discharge Ne-like Ar XUV laser (CDL). Investigating consequences of the multiple-shot exposure it has been found that an accumulation of 10, 20 and 40 shots at a fluence of 0.5 J/cm2, i.e., below the single-shot damage threshold, causes irreversible changes of a-C thin layer which can be registered by both the AFM and the DIC microscopy
Czech name
Poškození amorfního uhlíku zářením XUV laseru (46,9 nm) mnoha pulzy pod prahem poškození jedním impulzem
Czech description
Amorfní uhlíková (a-C) optická pokrytí vysoké kvality tloušťky 45 nm deponovaná magnetronovým naprašováním na křemíkových substrátech byla ozářena fokusovaným svazkem kapilárním výbojovým XUV laserem. Zjistili jsme, že expozice 10, 20 a 40 pulzy vedla kpoškození povrchu při fluenci 0.5 J/cm2, tedy bezpečně pod prahem poškození jedním impulzem

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)