Laser Photochemical Etching of Silica: Nanodomains of Crystalline Chaoite and Silica in Amorphous C/Si/O/N Phase

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00312092" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00312092 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/61388980:_____/08:00312092 RIV/67985858:_____/08:00312092 RIV/61388955:_____/08:00312092
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Laser Photochemical Etching of Silica: Nanodomains of Crystalline Chaoite and Silica in Amorphous C/Si/O/N Phase
Original language description
Silica etching by laser-photolytic products of pyridine allows deposition of amorphous carbon-Si/C/O/N nanocomposite containing crystalline nano-regions of rare chaoite or silica.
Czech name
Laserově fotochemické leptání siliky: nanodomény krystalických chaoitu a siliky v amorfní C/Si/O/N fázi
Czech description
Leptání siliky laserově fotolytickými produkty pyridinu dovoluje deposici amorfní fáze uhlík-Si/C/O/N nanokompositu obsahující krystalické domény vzácného chaoitu nebo siliky.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CF - Physical chemistry and theoretical chemistry
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/IAA400720619" target="_blank" >IAA400720619: New laser-induced process for production of novel carbon based nanomaterials and carbon-based nanomaterials with incorporated Si, N and B heteroatoms.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)