Functional pattern of AR layer at DUV (257 nm) with high performance immunity threshold

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F25%3A00644282" target="_blank" >RIV/68378271:_____/25:00644282 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/68081731:_____/25:00644282

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Funkční vzorek vrstvy AR při DUV (257 nm) s vysokou prahovou hodnotou odolnosti

Original language description

Pomocí pokročilých metod vakuového napařování elektronovým svazkem za asistence iontů (PIAD) byly na substrátu optického taveného křemene vytvořeny antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 257 nm s ultranízkými ztrátami a související odolností proti výkonovým laserovým pulzům. Unikátnost výsledku spočívá právě ve vysoké odolnosti vrstvy na průchod výkonových laserových pulzů, které mají energii řádově milijouly a délku pulzu v rozsahu jednotek pikosekund na vlnové délce 257 nm, která již spadá do oboru DUV – v celosvětovém pohledu takové vrstvy nejsou doposud komerčně dostupné, protože výkonové laserové pulzy na tak krátké vlnové délce se doposud příliš nevyužívají. Vytvořené antireflexní vrstvy vznikají technologií vakuového napařování elektronovým svazkem za asistence argonových iontů. Jde o systém střídavých vrstev dvou materiálů SiO2 a HfO2. Právě kombinace zmíněné technologie vrstvení a použití oxidu hafnia vede ke vzniku AR vrstvy s optickými ztrátami na úrovni setin procenta procházejícího záření. Na mikrokrystalické úrovni pak nevznikají rozptylová centra, na kterých dochází k postupné degradaci vrstev při průchodů vysokovýkonných pikosekundových laserových pulzů.

Czech name

Funkční vzorek vrstvy AR při DUV (257 nm) s vysokou prahovou hodnotou odolnosti

Czech description

Pomocí pokročilých metod vakuového napařování elektronovým svazkem za asistence iontů (PIAD) byly na substrátu optického taveného křemene vytvořeny antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 257 nm s ultranízkými ztrátami a související odolností proti výkonovým laserovým pulzům. Unikátnost výsledku spočívá právě ve vysoké odolnosti vrstvy na průchod výkonových laserových pulzů, které mají energii řádově milijouly a délku pulzu v rozsahu jednotek pikosekund na vlnové délce 257 nm, která již spadá do oboru DUV – v celosvětovém pohledu takové vrstvy nejsou doposud komerčně dostupné, protože výkonové laserové pulzy na tak krátké vlnové délce se doposud příliš nevyužívají. Vytvořené antireflexní vrstvy vznikají technologií vakuového napařování elektronovým svazkem za asistence argonových iontů. Jde o systém střídavých vrstev dvou materiálů SiO2 a HfO2. Právě kombinace zmíněné technologie vrstvení a použití oxidu hafnia vede ke vzniku AR vrstvy s optickými ztrátami na úrovni setin procenta procházejícího záření. Na mikrokrystalické úrovni pak nevznikají rozptylová centra, na kterých dochází k postupné degradaci vrstev při průchodů vysokovýkonných pikosekundových laserových pulzů.

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

—

OECD FORD branch

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Project

<a href="/en/project/TN02000020" target="_blank" >TN02000020: Centre of Advanced Electron and Photonic Optics</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2025

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

APL-2025-13

Numerical identification

—

Technical parameters

Pomocí pokročilých metod vakuového napařování s podporou plazmatu byly na substrátu optického taveného křemene vytvořeny antireflexní vrstvy pro vlnovou délku 257 nm s ultranízkými ztrátami a související vodolností proti výkonovým laserovým pulzům.

Economical parameters

Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. RNDr. Libor Mrňa, Ph.D., mrna@isibrno.cz.

Application category by cost

—

Owner IČO

68081731

Owner name

Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Licence fee requirement

N - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek

Web page

—