Matrix optical lithograph
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F07%3A04153512" target="_blank" >RIV/68407700:21340/07:04153512 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Maticový optický litograf
Original language description
Zařízení pro počítačem řízenou expozici difraktivních mikrostruktur a syntetických hologramů na bázi projekce z prostorového modulátoru. Zařízení obsahuje software pro návrh difraktivních struktur a hologramů různých typů. Umožňuje prostřednictvím počítače exponovat do rezistu o velikosti 100x100 mm syntetický barevný 3D hologram nebo jakýkoliv difraktivní v prostoru variabilní prvek dle předlohy.
Czech name
Maticový optický litograf
Czech description
Zařízení pro počítačem řízenou expozici difraktivních mikrostruktur a syntetických hologramů na bázi projekce z prostorového modulátoru. Zařízení obsahuje software pro návrh difraktivních struktur a hologramů různých typů. Umožňuje prostřednictvím počítače exponovat do rezistu o velikosti 100x100 mm syntetický barevný 3D hologram nebo jakýkoliv difraktivní v prostoru variabilní prvek dle předlohy.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
BH - Optics, masers and lasers
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
Matrix Optical lithograph
Numerical identification
—
Technical parameters
Velikost zaznamenané struktury až 70x70mm, rozlišení 250 000 dpi, rychlost zápisu cca 2cm2/hod, možnost volby záznamového materiálu, expozice v oblasti 400 nm.
Economical parameters
Zařízení je (z hlediska optických parametrů) ekvivalentní elektronovému litografu s cenou několik desítek mil Kč.
Application category by cost
—
Owner IČO
68407700
Owner name
České vysoké učení technické v Praze, Fakulta jaderná a fyz. inž.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—