Polysilanes UV and electron beam degradation for nanorezists

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F70883521%3A28110%2F06%3A63504651" target="_blank" >RIV/70883521:28110/06:63504651 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/68081731:_____/06:00053491

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Polysilanes UV and electron beam degradation for nanorezists

Original language description

Metastability and degradation of polysilanes by UV and electron beam was examined for nanoresists. Reversible and irreversible degradation is explained by the model of weak bonds.

Czech name

Degradace polysilanů UV a elektronovým svazkem pro nanorezisty

Czech description

Byla zkoumána metastabilita a degradace polysilanů UV zářením a elektronovým svazkem pro nanorezisty. Reverzibilní a ireverzibilní degradace je vysvětlována pomocí modelu slabých vazeb.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

CD - Macromolecular chemistry

OECD FORD branch

—

Project

Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Applied Physics of Condensed Matter - APCOM 2006

ISBN

80-227-2424-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

4

Pages from-to

37-40

Publisher name

Slovenská technická univerzita v Bratislave

Place of publication

Bratislava

Event location

—

Event date

—

Type of event by nationality

—

UT code for WoS article

—