Micro- and nanomachining structures fabricated by microelectronics technologies
Project goals
The proposed project facilitates an establishment of new technologies in the current thin-film laboratory at the BUT Department of Microelectronics. It will bring technology association of laboratories focused on techniques for fabrication of micro- andnanomachining systems in sensors and in semiconductor industry. The main benefit will be also to make technology available for requirements of Czech and foreign scientist laboratories. Techniques facilitating a realization of MEMS will be developed usingnew nanostructured materials and special attention will be focused on an utilisation of this materials and processes of the fabrication for masks of integrated circuits to achieve line resolution below 100 nm. We expect to develop techniques of a metal deposition via nanostructured mask. It gives us a modification possibilities of metal surface (e.g. electrodes), where better parameters of the planar form are expected, and for fabrication of nanocrystals used in solar techniques, and deposition of
Keywords
Public support
Provider
Czech Science Foundation
Programme
Post-graduate (doctorate) grants
Call for proposals
Standardní projekty 7 (SGA02004GA1PD)
Main participants
—
Contest type
VS - Public tender
Contract ID
—
Alternative language
Project name in Czech
Mikro- a nanostruktury realizované v mikroelektronických technologiích
Annotation in Czech
Navrhovaný projekt umožní zavedení nových technologií ve stávající laboratoři tenkých vrstev Ústavu mikroelektroniky. Přinese technologické spojení více laboratoří se zaměřením na techniky pro výrobu mikro- a nanosystému pro senzorovou techniku a pro výrobu integrovaných obvodu. Hlavním přínosem bude také zpřístupnění této technologie pro potřeby českých, ale i zahraničních vědeckých pracovišť. Budou vyvinuty techniky umožňující realizaci systémů MEMS za pomocí zcela nových nanostrukturovaných materiálůa zvláštní pozornost bude věnována využití těchto materiálů a postupu jejich výroby při realizaci masek integrovaných obvodu s cílem snížit tloušťku cáry pod 100 nm. Očekává se výzkum a vývoj technik depozice kovu za použití nanostrukturní masky, jež umožní modifikaci povrchu (např. elektrod), kde se předpokládá zlepšení parametru planární formy realizace, dále pro vytváření nanokrystalu pro potřeby solární techniky, depozice oxidu pro senzory plynu nebo elektronické nosy apod.
Scientific branches
Completed project evaluation
Provider evaluation
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Project results evaluation
The project was focused on finding techniques for nanostructures fabrication through templates and on the creation of a network of cooperative working groups of ASCR. The first step was mastering of nanoporous template fabrication as well as its creation
Solution timeline
Realization period - beginning
Jan 1, 2004
Realization period - end
Jan 1, 2006
Project status
U - Finished project
Latest support payment
—
Data delivery to CEP
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data delivery code
CEP07-GA0-GP-U/03:2
Data delivery date
Oct 16, 2007
Finance
Total approved costs
925 thou. CZK
Public financial support
925 thou. CZK
Other public sources
0 thou. CZK
Non public and foreign sources
0 thou. CZK
Basic information
Recognised costs
925 CZK thou.
Public support
925 CZK thou.
100%
Provider
Czech Science Foundation
CEP
JA - Electronics and optoelectronics
Solution period
01. 01. 2004 - 01. 01. 2006