Submicrometer relief diffractive structures made by electron-beam lithography.
Public support
Provider
Academy of Sciences of the Czech Republic
Programme
Scheme of targeted research and development support
Call for proposals
SAV0-SS2000
Main participants
Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Contest type
VS - Public tender
Contract ID
—
Alternative language
Project name in Czech
Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury
Annotation in Czech
Elektronová litografie je všeobecně uznávanou technikou v technologii mikroelektroniky pro generaci geometrických obrazců s detaily submikrometrových rozměrů. Při rozlišení na úrovni řádově 0.1um je možné využít tuto technologii i pro přípravu různých difraktivních struktur, které jsou schopny formovat vlnoplochy optických vln při využití jevu difrakce. Realizace difraktivních struktur však vyžaduje zvládnutí technologií a technik, které mají odlišnosti oproti mikroelektronickým strukturám. Tyto odlišnosti je možné charakterizovat 1) zásadně submikrometrovými detaily, 2) definovaným profilem reliéfu záznamového materiálu, 3) zpracováním velkého objemu dat (řádově GB), 4) nutností řešit rigorózně tzv. proximity efekt pro daný litograf a 5) dlouhodobým bezchybným chodem zařízení při zajištění stálosti jeho provozních parametrů během expozice. Projekt je zaměřen na řešení výše uvedených problematik, aby mohl být stávající litograf prakticky využit v oblasti difraktivní optiky.
Scientific branches
R&D category
—
CEP classification - main branch
JA - Electronics and optoelectronics
CEP - secondary branch
BH - Optics, masers and lasers
CEP - another secondary branch
—
OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering
Completed project evaluation
Provider evaluation
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Project results evaluation
Dosažené výsledky umožňují zápis velkoplošných difraktivních prvků typu syntetických hologramů ve vrstvě PMMA pomocí binárních reliefních mřížek. Byly získány originální výsledky pro využití v průmyslových aplikacích v oblasti konfonkální mikroskopie.
Solution timeline
Realization period - beginning
Jan 1, 2000
Realization period - end
Jan 1, 2002
Project status
U - Finished project
Latest support payment
—
Data delivery to CEP
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data delivery code
CEP/2003/AV0/AV03IB/U/N/2:1
Data delivery date
Jun 25, 2003
Finance
Total approved costs
2,088 thou. CZK
Public financial support
1,433 thou. CZK
Other public sources
655 thou. CZK
Non public and foreign sources
0 thou. CZK