Filters
Electron litograph upgrade (ELito) (GA102/97/1145)
The aim of the project is to develop a new electron lithograph control system later. The system consists of a lithographic coprocessor and application software (LTPT AV ČR) stay two electron beam lithographs: a development ...
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
- 1997 - 1998 •
- 801 tis. Kč •
- 674 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 1997 - 1. 1. 1998
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (84%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
Lithographic ultrasonic arrays from intelligent materials for Industry 4.0 (FW01010279)
The aim of the project is the R&D of lithographic 2D fields of ultrasonic transducers from smart materials for cyber-physical systems. Achieving the goal the intention (subject of solution) of R&D lithographic 2D fields of ultrasoni...
Acoustics
- 2020 - 2024 •
- 32 260 tis. Kč •
- 21 413 tis. Kč •
- TA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2020 - 31. 12. 2024
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (66%)
Poskytovatel: Technologická agentura ČR
Electron-beam lithography for preparation of nanostructures (GA102/05/2325)
Actual electron-beam lithographic system BS 600 works with the limit resolution of 0.1 microns. Recently,we have received a couple of requirements for production of structures with better resolution.The aim of this project is to study a prep...
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
- 2005 - 2006 •
- 1 700 tis. Kč •
- 1 631 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2005 - 1. 1. 2006
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (96%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
*Advanced automated nano structuring using electron and ion beams (FR-TI2/756)
similar to lithographic stages. This machine would enable to do automated local nano lens of the electron column will be newly designed in order to enable processing......
BF - Elementární částice a fyzika vysokých energií
- 2010 - 2012 •
- 20 384 tis. Kč •
- 11 085 tis. Kč •
- MPO
Řešení projektu: 1. 1. 2010 - 31. 12. 2012
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (54%)
Poskytovatel: Ministerstvo průmyslu a obchodu
Research and development of Security printing (EG15_018/0004777)
The core of the project is the research activity of electron lithography and the modernization of the lithograph as such. The aim of the project is: 1) Verified Technology - Technology of recording and laminating mesh structures for high c...
JR - Ostatní strojírenství
- 2015 - 2021 •
- 35 441 tis. Kč •
- 8 826 tis. Kč •
- MPO
Řešení projektu: 30. 9. 2015 - 15. 3. 2021
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (25%)
Poskytovatel: Ministerstvo průmyslu a obchodu
Silicon nanowires for three-dimensional nanoelectronics (GA16-12355S)
. By combining the controlled nanowire growth method with lithographic processes, our into the growth mechanism in plasma assisted processes, we will thoroughly investigate......
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
- 2016 - 2020 •
- 6 446 tis. Kč •
- 5 996 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2016 - 22. 7. 2020
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (93%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
Strain engineering in diluted magnetic semiconductors (GP202/09/P410)
substrate. We will focus especially on the lithographically modified single epitaxial...
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
- 2009 - 2011 •
- 656 tis. Kč •
- 656 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2009 - 31. 12. 2011
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (100%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
Carbon allotropes with rationalized nanointerfaces and nanolinks for environmental and biomedical applications (EF16_026/0008382)
The main objective of the project is to establish and implement long-term intensive cooperation between partners from the academic and commercial spheres for the purpose of excellent research with an important impact on areas that determine the quali...
Materials engineering
- 2018 - 2023 •
- 98 980 tis. Kč •
- 75 887 tis. Kč •
- MŠMT
Řešení projektu: 1. 10. 2018 - 28. 2. 2023
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (77%)
Poskytovatel: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Submicrometer relief diffractive structures made by electron-beam lithography. (IBS2065014)
profile of the structure, 3) process enormous data volume (typically GB) in real time, 4) rigorously solve proximity effect in relation to a specific lithograph and 5......
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
- 2000 - 2002 •
- 2 088 tis. Kč •
- 1 433 tis. Kč •
- AV ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2000 - 1. 1. 2002
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (69%)
Poskytovatel: Akademie věd České republiky
Study of chemical and electrochemical processes influencing growth of self-organized TiO2 nanotubes in solutions (GA14-20744S)
surface locations by various lithographic techniques or indentation techniques...
CA - Anorganická chemie
- 2014 - 2015 •
- 2 161 tis. Kč •
- 2 161 tis. Kč •
- GA ČR
Řešení projektu: 1. 1. 2014 - 31. 12. 2015
Uznané náklady
Podpora ze státního rozpočtu (100%)
Poskytovatel: Grantová agentura České republiky
- 1 - 10 out of 12 090