All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00014212" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00014212 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas

  • Original language description

    We applied actinometry for the calculation of dissociation degree in oxygen CCP discharges used for the deposition from O2/HMDSO plasmas. Dissociation degree exhibited a slight increase with increasing r.f. power and maximum of 20% for 5 Pa of oxygen. This relatively high value was not enough for deposition of SiO2-like films because the HMDSO percentage in the feed was too high at this low oxygen partial pressure. Rapid decrease of dissociation degree to 2-4% for higher oxygen flow rates, i.e. higher pressures resulted in still insufficient oxidation of film precursors.

  • Czech name

    Aktinometrie pro porozumění plazmochemické depozice tenkých vrstev z O2/HMDSO plazmatu

  • Czech description

    Použili jsme aktinometrii pro odhad disociačního koeficientu kyslíku v kapacitně vázaných výbojích používaných při depozicích z 02/HMDSO. Disociační stupeň v čistém kyslíku rostl s rostoucím výkonem a vykazoval maximum 20% při tlaku 5 Pa. Přesto tento disociační stupeň nebyl dostatečně vysoký, aby bylo možné vytvářet vrstvy podobné SiO2, protože při 5 Pa bylo stále ještě velké množství HMDSO ve směsi. Pokles disociačního stupně na 2-4% při vyšších průtocích kyslíku, tedy i tlacích, měl za následek nedostatečnou oxidaci vrstev rostoucích ze směsi obsahující větší procento 02.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/1K05025" target="_blank" >1K05025: Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasma enhanced CVD</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2005

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    Proceedings of the XXVII ICPIG

  • ISBN

    90-386-2231-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    4

  • Pages from-to

    297

  • Publisher name

    Eindhoven University of Technology, Nizozemí

  • Place of publication

    Eindhoven, Nizozemí

  • Event location

    Eindhoven, Nizozemí

  • Event date

    Jul 17, 2005

  • Type of event by nationality

    WRD - Celosvětová akce

  • UT code for WoS article